centrotherm 快速退火炉-c.rapid 150 一、产品简介 德国centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。centrotherm c.rapid 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。 centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了出色的控温精度和控温重复性。 此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。 成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.rapid 150成为一款优秀的手动rtp设备。 二、典型应用 ?退火：一般退火、接触层（contact）退火、源/漏退火、势垒金属退火 ?硅化 ?氧化 ?掺杂活化 三、产品特性 ?可在常压或者真空（控压）下工作 ?高度灵活性：适用于大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘 ?升温速率约150 k/s ?出色的温度均匀性 ?精确的环境控制 ?高的设备可靠性 ?可以并排安装 四、设备参数 衬底材料 si, gaas, sic, gan, 蓝宝石 等 晶片尺寸 大6寸 加热系统 24 个加热灯 (独立控制) 温度范围 室温~1200℃ 工艺气体 所有通常使用的气体，如n2、ar、o2、n2o、n2 /h2 等 尺寸 2170 * 1150 *2050 mm 功率 大 55 kw